|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
Improvement on low-temperature deposited HfO2 film and interfacial layer by high-pressure oxygen treatment |
| Auteur: |
Yang, Po-Chun Chang, Ting-Chang Chen, Shih-Ching Su, Hsuan-Hsiang Lu, Jin Huang, Hui-Chun Gan, Der-Shin Ho, New-Jin |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 62 (2011) nr. 1 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |