|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of the sidewall crystal orientation, HfSiO nitridation and TiN metal gate thickness on n-MuGFETs under analog operation |
| Auteur: |
Rodrigues, M. Galeti, M. Martino, J.A. Collaert, N. Simoen, E. Claeys, C. |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 62 (2011) nr. 1 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |