|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Inductively Coupled Plasma Etching in ICl- and IBr-Based Chemistries. Part II: InP, InSb, InGaP, and InGaAs |
| Auteur: |
Y. B. Hahn D. C. Hays H. Cho K. B. Jung E. S. Lambers C. R. Abernathy S. J. Pearton W. S. Hobson R. J. Shul |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 20 (2000) nr. 3 pagina's 11 p. |
| Jaar: |
2000-09 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, U.S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |