|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Inductively Coupled Plasma Etching in ICl- and IBr-Based Chemistries. Part II: InP, InSb, InGaP, and InGaAs |
| Auteur: |
Hahn, Y. B. Hays, D. C. Cho, H. Jung, K. B. Lambers, E. S. Abernathy, C. R. Pearton, S. J. Hobson, W. S. Shul, R. J. |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 20 (2000) nr. 3 pagina's 417-427 |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |