|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 13 gevonden artikelen
| Titel: |
Deposition Characteristics of AlN Thin Film Prepared by the Dual Ion Beam Sputtering System |
| Auteur: |
Hu, T. L. Mao, S. W. Chao, C. P. Wu, M. F. Huang, H. L. Gan, D. |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 36 (2006) nr. 1 pagina's 81-87 |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 13 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |