|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 5 gevonden artikelen
| Titel: |
Simple simulation of electron-beam lithography for fabricating sub-0.2 μm T-shaped gates based on a two-layer resist system |
| Auteur: |
Xu, D |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 40 (1998) nr. 2 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 5 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |