|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 118 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching characteristics of Si and SiO2 with a low energy argon/hydrogen d.c. plasma source |
| Auteur: |
Strass, A Hansch, W Bieringer, P Neubecker, A Kaesen, F Fischer, A Eisele, I |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 97 (1997) nr. 1-3 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1997 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 118 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |