|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 118 gevonden artikelen
| Titel: |
Enhanced deposition rate of d.c. reactively sputtered TiO2 films by means of low-frequency modulation of the discharge current |
| Auteur: |
Lapostolle, F. Huu Loı̈, Tran Billard, A. Frantz, C. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 97 (1997) nr. 1-3 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
1997 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 118 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |