|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 40 gevonden artikelen
| Titel: |
Ferroelectric of HfO2 dielectric layer sputtered with TiN or ZrN for sandwich-like metal-insulator-metal capacitors |
| Auteur: |
Juan, P.C. Lin, K.C. Chu, H.Y. Kuo, Y.C. Wang, H.W. Shih, T.Y. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 83 (2018) nr. C pagina's 242-248 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 40 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |