|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Enhancement of FinFET performance using 25-nm-thin sidewall spacer grown by atomic layer deposition |
| Auteur: |
Endo, Kazuhiko Ishikawa, Yuki Matsukawa, Takashi Liu, Yongxum O’uchi, Shin-ichi Sakamoto, Kunihiro Tsukada, Junichi Yamauchi, Hiromi Masahara, Meishoku |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 74 (2012) nr. C pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |