|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparison of plasma etch techniques for III–V nitrides |
| Auteur: |
Shul, R.J Vawter, G.A Willison, C.G Bridges, M.M Lee, J.W Pearton, S.J Abernathy, C.R |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 42 (1998) nr. 12 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |