|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Cl2-based dry etching of the AlGaInN system in inductively coupled plasmas |
| Auteur: |
Cho, Hyun Vartuli, C.B Abernathy, C.R Donovan, S.M Pearton, S.J Shul, R.J Han, J |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 42 (1998) nr. 12 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |