|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 38 van 40 gevonden artikelen
| Titel: |
The effect of nitrous oxide plasma treatment on the bias temperature stress of metal oxide thin film transistors with high mobility |
| Auteur: |
Tseng, Wei-Hao Fang, Shao-Wei Lu, Chia-Yang Chuang, Hung-Yang Chang, Fan-Wei Lin, Guan-Yu Chen, Tsu-Wei Ma, Kang-Hung Chen, Hong-Syu Chen, Teng-Ke Chen, Yu-Hung Lee, Jen-Yu Shih, Tsung-Hsiang Ting, Hung-Che Chen, Chia-Yu Lin, Yu-Hsin Hong, Hong-Jye |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 103 (2015) nr. C pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 38 van 40 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |