|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 249 van 252 gevonden artikelen
| Titel: |
Tungsten Nitrides by PECVD: Some Chemical and Structural Characterizations |
| Auteur: |
Meunier, C. Berjoan, R. Savall, C. Weber, J. |
| Verschenen in: |
Materials and manufacturing processes |
| Paginering: | Jaargang 13 (1998) nr. 3 pagina's 415-422 |
| Jaar: |
1998-05-01 |
| Inhoud: |
Thin films of c-WN: H are synthesized by plasma enhanced chemical vapor deposition using a hot wall type reactor. These films are polycrystalline. The formation temperatures are in the 350-620°C range with WF6, NH3, as precursors and Ar and H2 as feed gas. XRD and XPS analysis show a chemical composition close to that of WN but a structure varying from tungsten form to tungsten nitride. ERDA and RBS analysis provide a hydrogen content and its; concentration profile through the thickness of the coating. AFM measurements are performed to evaluate the growth conditions. |
| Uitgever: |
Taylor & Francis |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 249 van 252 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |