|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Novel precursors for the MOCVD of ferroelectric thin films |
| Auteur: |
Leedham, Timothy J. Jones, Anthony C. Wright, Peter J. Crosbie, Michael J. Williams, Dennis J. Davies, Hywel O. O'Brien, Paul |
| Verschenen in: |
Integrated ferroelectrics |
| Paginering: | Jaargang 26 (1999) nr. 1-4 pagina's 85-92 |
| Jaar: |
1999-10-01 |
| Inhoud: |
MOCVD is an attractive technique for the deposition of ferroelectric thin films. In order to exploit the full potential of the technique, the properties of the metalorganic precursor sometimes need to be tailored in order to optimise process parameters. In this paper we describe how the substitution of simple alkoxide groups by β-diketonate or other chelating groups can lead to precursors with improved physical properties and optimised MOCVD performance. |
| Uitgever: |
Taylor & Francis |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |