|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Surface corona discharge-induced plasma chemical process-chemical vapor deposition (SPCP-CVD) as a novel method for surface modification of ceramic membranes |
| Auteur: |
Ida, Jun-Ichi Matsuyama, Tatsushi Yamamoto, Hideo |
| Verschenen in: |
Advanced powder technology |
| Paginering: | Jaargang 11 (2000) nr. 3 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Society of Powder Technology Japan |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |