|
The at-wavelength metrology facility for UV- and XUV-reflection and diffraction optics at BESSY-II |
|
|
|
Titel: |
The at-wavelength metrology facility for UV- and XUV-reflection and diffraction optics at BESSY-II |
Auteur: |
Schäfers, F. Bischoff, P. Eggenstein, F. Erko, A. Gaupp, A. Künstner, S. Mast, M. Schmidt, J.-S. Senf, F. Siewert, F. Sokolov, A. Zeschke, Th. |
Verschenen in: |
Journal of synchrotron radiation |
Paginering: |
Jaargang 23 (2016) nr. 1 pagina's 67-77 |
Jaar: |
2016-01-01 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|