|
X-ray nanodiffraction analysis of stress oscillations in a W thin film on through-silicon via |
|
|
|
Titel: |
X-ray nanodiffraction analysis of stress oscillations in a W thin film on through-silicon via |
Auteur: |
Todt, J. Hammer, H. Sartory, B. Burghammer, M. Kraft, J. Daniel, R. Keckes, J. Defregger, S. |
Verschenen in: |
Journal of applied crystallography |
Paginering: |
Jaargang 49 (2016) nr. 1 pagina's 182-187 |
Jaar: |
2016-02-01 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|