Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 14 van 21 gevonden artikelen
 
 
  Spatial intensity profile of an X-ray beam reflected from nearly perfect silicon and diffuse scattering measurements
 
 
Titel: Spatial intensity profile of an X-ray beam reflected from nearly perfect silicon and diffuse scattering measurements
Auteur: Entin, I. R.
Khrupa, V. I.
Verschenen in: Journal of applied crystallography
Paginering: Jaargang 24 (1991) nr. 4 pagina's 403-404
Jaar: 1991-08-01
Inhoud:
Uitgever: International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 14 van 21 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland