|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Extreme asymmetric X-ray Bragg reflection of semiconductor heterostructures near the edge of total external reflection |
| Auteur: |
Brühl, H.-G. Baumbach, T. Gottschalch, V. Pietsch, U. Lengeler, B. |
| Verschenen in: |
Journal of applied crystallography |
| Paginering: | Jaargang 23 (1990) nr. 4 pagina's 228-233 |
| Jaar: |
1990-08-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |