|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 36 gevonden artikelen
| Titel: |
Impact of Process Variability on Threshold Voltage in Vertically-Stacked Nanosheet TFET |
| Auteur: |
Yuehui, Han Ru, Han Yuefeng, Gu Liangyou, Feng |
| Verschenen in: |
SILICON |
| Paginering: | Jaargang 15 () nr. 10 pagina's 4529-4537 |
| Jaar: |
2023-03-04 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 36 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |