|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 80 gevonden artikelen
| Titel: |
Design and Optimization of Dual Material Gate Junctionless FinFET Using Dimensional Effect, Gate Oxide and Workfunction Engineering at 7 nm Technology Node |
| Auteur: |
Kusuma, Rambabu Talari, V. K. Hanumantha Rao |
| Verschenen in: |
SILICON |
| Paginering: | Jaargang 14 () nr. 16 pagina's 10301-10311 |
| Jaar: |
2022-03-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 80 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |