|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 60 gevonden artikelen
| Titel: |
Amorphization of SiO2 Thin Films by Using 200 MeV Ag15+ Ions |
| Auteur: |
Gaikwad, Anil Mhaisagar, Yogesh Gupta, Swati Joshi, Bhavana Asokan, Kandasami Mahajan, Ashok |
| Verschenen in: |
SILICON |
| Paginering: | Jaargang 11 (2018) nr. 2 pagina's 1017-1021 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 60 gevonden artikelen
| volgende >> |