|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 39 van 45 gevonden artikelen
| Titel: |
Study on Photoresist Transfer in Rotational Near-Field Photolithography Using Molecular Dynamics Simulation |
| Auteur: |
Ji, Jiaxin He, Sheng Lin, Zhongwen Sun, Shaohua Hu, Yueqiang Meng, Yonggang Wang, Shuangqing |
| Verschenen in: |
Plasmonics |
| Paginering: | Jaargang 16 () nr. 5 pagina's 1799-1807 |
| Jaar: |
2021-04-10 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 39 van 45 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |