|
Advanced mask aligner lithography (AMALITH) for thick photoresist |
|
|
|
Titel: |
Advanced mask aligner lithography (AMALITH) for thick photoresist |
Auteur: |
Voelkel, Reinhard Vogler, Uwe Bramati, Arianna Hennemeyer, Marc Zoberbier, Ralph Voigt, Anja Grützner, Gabi Ünal, Nezih Hofmann, Ulrich |
Verschenen in: |
Microsystem technologies |
Paginering: |
Jaargang 20 (2013) nr. 10-11 pagina's 1839-1842 |
Jaar: |
2013 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|