|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
Modifying of etching anisotropy of silicon substrates by surface active agents |
| Auteur: |
Rola, Krzysztof P. Zubel, Irena |
| Verschenen in: |
Central European journal of physics |
| Paginering: | Jaargang 9 (2011) nr. 2 pagina's 410-416 |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
SP Versita, Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 37 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |