|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 65 van 78 gevonden artikelen
| Titel: |
Process characterization and statistical analysis of oxide CMP on a silicon wafer with sparse data |
| Auteur: |
Bukkapatnam, S.T.S. Rao, P.K. Lih, W.-C. Chandrasekaran, N. Komanduri, R. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 88 () nr. 4 pagina's 785-792 |
| Jaar: |
2007-06-20 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 65 van 78 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |