|
Nanoscale gap filling for phase change material by pulsed deposition and inductively coupled plasma etching |
|
|
|
Titel: |
Nanoscale gap filling for phase change material by pulsed deposition and inductively coupled plasma etching |
Auteur: |
Ren, W. C. Liu, B. Song, Z. T. Jing, X. Z. Zhang, B. C. Xiang, Y. H. Xiao, H. B. Xu, J. Wu, G. P. Qi, R. J. Duan, S. Q. Yu, Q. Q. Feng, S. L. |
Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
Paginering: |
Jaargang 112 (2012) nr. 4 pagina's 999-1002 |
Jaar: |
2012 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|