|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 5 gevonden artikelen
| Titel: |
Masking Properties of Structures Based on a Triacrylamide Derivative of Polyfluorochalcone at Wet and Reactive Ion Etching |
| Auteur: |
Derevyashkin, S. V. Soboleva, E. A. Shelkovnikov, V. V. Malyshev, A. I. Korolkov, V. P. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 48 (2019) nr. 1 pagina's 13-27 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 5 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |