|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching of GaAs in the Plasma of a Freon R-12–Argon (CCl2F2/Ar) Mixture |
| Auteur: |
Murin, D. B. Dunaev, A. V. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 47 (2019) nr. 6 pagina's 434-442 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |