|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparative Study of an RF and a Microwave High-Density-Plasma Source for Plasma Immersion Ion Implantation |
| Auteur: |
Averkin, S. N. Ershov, A. P. Orlikovsky, A. A. Rudenko, K. V. Sukhanov, Ya. N. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 32 (2003) nr. 5 pagina's 292-300 |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |