|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparative Study of an RF and a Microwave High-Density-Plasma Source for Plasma Immersion Ion Implantation |
| Auteur: |
S. N. Averkin A. P. Ershov A. A. Orlikovsky K. V. Rudenko Ya. N. Sukhanov |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 32 (2003) nr. 5 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2003-09/10-/10 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, U.S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |