|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Reaction Mechanisms in Both a CCl2F2/O2/Ar and a CCl2F2/H2/Ar RF Plasma Environment |
| Auteur: |
Ya-Feng Wang Wen-Jhy Lee Chuh-Yung Chen Yo-Ping Greg Wu Guo-Ping Chang-Chien |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 20 (2000) nr. 4 pagina's 26 p. |
| Jaar: |
2000-12 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, U.S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |