|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 26 van 51 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of oxygen flow rate on photocatalytic TiO2 films deposited by rf magnetron sputtering |
| Auteur: |
Chiou, A. H. Kuo, C. G. Huang, C. H. Wu, W. F. Chou, C. P. Hsu, C. Y. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 23 (2011) nr. 2 pagina's 589-594 |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 26 van 51 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |