|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Analysis of weakly bonded oxygen in HfO2/SiO2/Si stacks by using HRBS and ARXPS |
| Auteur: |
Tien, Ta-Chang Lin, Li-Chuan Lee, Lurng-Shehng Hwang, Chi-Jen Maikap, Siddheswar Shulga, Yuri M. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 21 (2009) nr. 5 pagina's 475-480 |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 18 gevonden artikelen
| volgende >> |