|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
The effect of He or Ar/O2 plasma treatment on Si surface prior to chemical vapor deposition of SiO2 |
| Auteur: |
Kim, Hyo-Uk Yi, Chung Rhee, Shi-Woo |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 15 (2004) nr. 1 pagina's 37-41 |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 20 gevonden artikelen
| << vorige |