|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 17 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
The growth of Cu thin films by low pressure chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Ramaiah, Kodigala Subba Pilkington, R. D. Hill, A. E. Tomlinson, R. D. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 10 (1999) nr. 1 pagina's 51-57 |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 17 van 17 gevonden artikelen
| << vorige |