|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
The growth of Cu thin films by low pressure chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Kodigala Subba Ramaiah R. D. Pilkington A. E. Hill R. D. Tomlinson |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 10 (1999) nr. 1 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1999-03 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston, U.S.A |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |