|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
Doping engineering to enhance the performance of double-gate pMOSFETs with ultrashort gate length (5 nm) |
| Auteur: |
Khaliq, Afshan Zhang, Shuo |
| Verschenen in: |
Journal of computational electronics |
| Paginering: | Jaargang 20 () nr. 3 pagina's 1178-1186 |
| Jaar: |
2021-05-06 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 39 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |