|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Chemical vapor deposition of gold on \mathrm{Al}_{2}\mathrm{O}_{3}, \mathrm{SiO}_{2}, and \mathrm{TiO}_{2} for the oxidation of CO and of \mathrm{H}_{2} |
| Auteur: |
Mitsutaka Okumura Shyunichi Nakamura Susumu Tsubota Toshiko Nakamura Masashi Azuma Masatake Haruta |
| Verschenen in: |
Catalysis letters |
| Paginering: | Jaargang 51 (1998) nr. 1 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Dordrecht, The Netherlands |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |