|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 30 van 36 gevonden artikelen
| Titel: |
Super-resolution fluorescence microscopy on E-beam resist film during electron beam exposure for mask patterning process |
| Auteur: |
Bae, Sukjong de Jong, Flip Nuyts, Rik Sasikumar, Rahul Yuan, Haifeng Min, Seongjune Choi, Jin Lee, Sanghee Park, Joonsoo Hofkens, Johan |
| Verschenen in: |
Micro and nano engineering |
| Paginering: | Jaargang 19 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Author(s) |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 30 van 36 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |