|
In situ monitoring of stress change in GeTe thin films during thermal annealing and crystallization |
|
|
|
Titel: |
In situ monitoring of stress change in GeTe thin films during thermal annealing and crystallization |
Auteur: |
Ben Yahia, B. Amara, M.S. Gallard, M. Burle, N. Escoubas, S. Guichet, C. Putero, M. Mocuta, C. Richard, M.-I. Chahine, R. Sabbione, C. Bernard, M. Fellouh, L. NoƩ, P. Thomas, O. |
Verschenen in: |
Micro and nano engineering |
Paginering: |
Jaargang 1 (2018) nr. C pagina's 63-67 |
Jaar: |
2018 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|