|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 209 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer deposition mechanism of hafnium dioxide using hafnium precursor with amino ligands and water |
| Auteur: |
Li, Jing Guo, Jiayi Zhou, Zhongchao Xu, Rui Xu, Lina Ding, Yihong Xiao, Hongping Li, Xinhua Li, Aidong Fang, Guoyong |
| Verschenen in: |
Surfaces and interfaces |
| Paginering: | Jaargang 44 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 209 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |