|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 103 van 130 gevonden artikelen
| Titel: |
Silicon Dioxide Deposited Using Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition for Improved Adhesion and Water Intrusion Resistance for Lightweight Manufacturing |
| Auteur: |
Jeckell, Zachary Patel, Dhruval Herschberg, Andrew Choi, Tag Barlaz, David Bonova, Lucia Shchelkanov, Ivan Jurczyk, Brian Ruzic, David |
| Verschenen in: |
Surfaces and interfaces |
| Paginering: | Jaargang 23 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 103 van 130 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |