|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 42 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of ALD window on thermal ALD deposited HfOx/Si interface for silicon surface passivation |
| Auteur: |
Tomer, Shweta Panigrahi, Jagannath Pathi, Prathap Gupta, Govind Vandana, |
| Verschenen in: |
Materials today: proceedings |
| Paginering: | Jaargang 46 () nr. P12 pagina's 5761-5765 |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 42 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |