|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 17 van 48 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of O2 flow rate on the characteristics of TiO2 thin films deposited by RF reactive sputtering |
| Auteur: |
Kamble, Sudhir S. Radhakrishnan, J.K. |
| Verschenen in: |
Materials today: proceedings |
| Paginering: | Jaargang 45 () nr. P4 pagina's 3915-3919 |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 17 van 48 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |