|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma deposited silicon oxide films for controlled permeation of copper as antimicrobial agent |
| Auteur: |
Lehmann, Antje Rupf, Stefan Schubert, Andreas Zylla, Isabella-Maria Seifert, Hans Jürgen Schindler, Axel Arnold, Thomas |
| Verschenen in: |
Clinical plasma medicine |
| Paginering: | Jaargang 3 (2015) nr. 1 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier GmbH |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |