|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 51 van 82 gevonden artikelen
| Titel: |
Material removal function of the capacitive coupled hollow cathode plasma source for plasma polishing |
| Auteur: |
Wang, Dasen Liu, Weiguo Wu, Yilong Hang, Lingxia Yu, Huadong Jin, Na |
| Verschenen in: |
Physics procedia |
| Paginering: | Jaargang 19 (2011) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 51 van 82 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |