|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 86 van 178 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigation of the formation mechanism of the fluorocarbon film in CF4 plasma processing of fused silica |
| Auteur: |
Jin, Huiliang Fan, Fei Yuan, Zhigang Li, Yaguo |
| Verschenen in: |
Optik |
| Paginering: | Jaargang 202 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 86 van 178 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |