|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
Characteristics of Plasma-Treated Amorphous Ta-Si-C Film as a Diffusion Barrier for Copper Metallization |
| Auteur: |
Fang, Jau-Shiung Su, Wu-Jia Huang, Meng-Shuo Chiu, Chin-Fu Chin, Tsung-Shune |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 43 (2013) nr. 1 pagina's 212-218 |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 37 gevonden artikelen
| volgende >> |